中科院院士、教授

◆北京大学教授 (1993- )

◆杰青（1994）

◆长江特聘教授（1999-）

◆中国科学院院士 (2011)

◆中组部“万人计划”杰出人才（2013）

◆北京大学纳米化学研究中心主任

◆北京石墨烯研究院院长（2016-）

联系电话：010-83432601
电子邮箱：zfliu@pku.edu.cn 
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研究方向： 

石墨烯科学与工程

石墨烯是二十一世纪的战略新兴材料，在航空航天、电子信息、新能源、热管理、节能环保、以及国防军工领域有着广阔的应用前景。制备决定未来，没有石墨烯制备技术上的突破，就没有石墨烯产业的未来。本课题组重点关注石墨烯材料的制备方法和工程化制备技术研究，致力于打造石墨烯新材料产业的核心竞争力。

主要研究内容：

1）通用石墨烯薄膜和单晶晶圆的高温生长方法；

2）石墨烯增强复合材料设计与生长方法；

3）石墨烯材料的规模化生长工艺与装备；

4）石墨烯材料的应用探索。

教育经历：

 ◆长春工业大学学士（1983）

 ◆横滨国立大学硕士（1987）

 ◆东京大学博士（1990）

◆东京大学和冈崎国立共同研究机构分子研究所博士后（1990-1993）

 

获得奖励和荣誉：

1997年获香港求是科技基金会杰出青年学者奖

2005年获中国分析测试协会科学技术一等奖

2007年获高等学校科学技术奖自然科学一等奖

2008年获国家自然科学二等奖

2012年获中国化学会—阿克苏诺贝尔化学奖

2012年获宝钢优秀教师特等奖

英国皇家化学会会士

英国物理学会会士

 主要社会兼职：

九三学社中央副主席

全国政协常委

北京市政协副主席

北京市人民政府专家咨询委员会委员

教育部科技委化学化工学部委员

教育部教学指导委员会材料物理与材料化学专业教学指导分委员会副主任委员

中国化学会常务理事、纳米化学专业委员会主任

物理化学学报主编

化学学报副主编

科学通报副主编

APL Materials副主编

Adv. Mater.、Small、Nano Res.、Natural Science Review、ChemNanoMat、NPG Asia Materials、J. Photochem.and Photobiol. C. Photochem. Rev.等国际期刊编委或顾问编委。

近期代表性论文：

1. JH Liao, YX Zhao, XH Chen, ZN Hu, SY Bu, YQ Zhu, Q Lu, MP Shang, HT Wu, FF Li, ZF Shi, Q Zhao, KC Jia, JY Hu, ZY Han, Q Xie, XX Zhao, JB Yin, WD Wang, HL Peng, XH Qiu, YF Zhang*, L Lin*, ZF Liu*, Dielectric assisted transfer using single-crystal antimony oxide for two-dimensional material devices. Nat. Electron. 8(2025), 309

2. YX Zhao, JH Liao, SY Bu, ZN Hu, JY Hu, Q Lu, MP Shang, BB Guo, G Chen, Q Zhao, KC Jia, GR Wang, E Errington, Q Xie, YF Zhang, M Guo, BY Mao*, Li Lin*, ZF Liu*, Automated processing and transfer of two-dimensional materials with robotics, Nat. Chem. Eng. 2(2025), 296–308.

3. JX Shao, S Li, ZF Shi, Y Sun, MY Liu, XM Ma, GC Gao, SW Wang, YS Ge, B Jin, DP Zhang,WC Chen, JH Liao, AL Cai, B Yang, H Li, JC Zhang, XC Sun, MX Liu, L Lin, KC Jia^*, Zhongfan Liu^*, Surface-energy-compensated fabrication of single-crystal alloy films with atomic-scale flatness, Nat. Commun. 17(2026)1-11.

4. BH Chen, XZ Zeng, ZT Liu, WL Dong, D Pei, H Wang, YY Dong, CJ Wu, XY Gao, HB Xiao, H Gao, H Jia, AH Yuan, JL Du, H Chen, HY Liu, CW Tan, JB Yin, ZK Liu, LQ Liu, P Gao, K. S. Novoselov, HL Peng, ZY Li*, LZ Sun*, ZF Liu*, Edge-feeding synchronous epitaxy of layer-controlled graphene films on heterogeneous catalytic substrates. Nat. Commun. 16(2025), 5490.

5. JX Shao, YS Zhu, JH Liao, S Lou, SW Wang, QM Zhang, YS Ge, MY Wei, ZN Hu, MT Zhu, G Chen, S Li, YX Zhao, SY Wang, JC Zhang, W Wei, NP Lu, XC Sun*, L Lin*, KC Jia*, ZF Liu*, Texture-Engineered Fabrication of Ultraflat, 6-inch Single-Crystal Cu(111) Wafers, Sci. Adv. 11(44), 1943, 2025.

6. YY Yang, Y Fang, EK Feng, WJ Jiang, XC Zhang, LF Liu, Y Cheng, F Yang, WJ Li, FS Liang, KYi Zheng, B Deng*, Y Qi*, and ZF Liu*, Scalable, universal in situ self-heating chemical vapor deposi-tion strategy for high-quality thick turbostratic graphene via combined twist–tilt configuration engineering, J. Am. Chem. Soc. 147(47)2025, 43805–43815.

7. JC Zhang, XT Liu, MQ Zhang, R Zhang, H Ta, JB Sun, WD Wang, WQ Zhu, TT Fang, KC Jia, XC Sun, XT Zhang, YS Zhu, JX Shao, YC Liu, X Gao, Q Yang, LZ Sun, Q Li, FS Liang, H Chen, LM Zheng, FY Wang, WJ Yin, XD WEi, JB Yin, T Gemming, M Rummeli, HH Liu*, HL Peng*, L Lin*, ZF Liu*, Fast synthesis of large-area bilayer graphene film on Cu, Nat. Commun. 14(2023), 3199.

8. LZ Sun, ZH Wang, YC Wang, L Zhao, YL Li, BH Chen, SH Huang, SS Zhang, WD Wang, D Pei, HW Fang, S Zhong, HY Liu, JC Zhang, LM Tong, YL Chen, ZY Li, MH Rummeli, KS Novoselov, HL Peng*, L Lin*, ZF Liu*, Hetero-site nucleation for growing twisted bilayer graphene with a wide range of twist angles, Nat. Commun. 12(2021), 2391

9. JC Zhang*, KC Jia, YF Huang, YN Wang, N Liu, YN Chen, XT Liu, XJ Liu, YS Zhu, LM Zheng, H Chen, FS Liang, MQ Zhang, XJ Duan, HW Wang, L Lin*, HL Peng*, ZF Liu*, Hydrophilic, Clean Graphene for Cell culture and Cryo-EM Imaing, Nano Lett. 21(22)(2021), 9587-9593.

10. KC Jia, HN Ci, JC Zhang, ZT Sun, ZT Ma, YS Zhu, SN Liu, JL Liu, LZ Sun, XT Liu, JY Sun, WJ Yin, HL Peng*, L Lin*, ZF Liu*, Superclean growth of graphene using cold-wall chemical vapor deposition approach, Angew. Chem. Int. Ed. 59(2020), 17214-17218.